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カスタムCI-XT6700 発熱量高炉ガス分析システム 1
カスタムCI-XT6700 発熱量高炉ガス分析システム 1

カスタムCI-XT6700 発熱量高炉ガス分析システム

ガス分析システムは、プロセス分析システム、サンプリング前処理装置、およびそれに付属する適用保証部品(標準ガス)から構成されます。現場の適用条件とプロセス条件に前処理装置を正しく適合させ、合理的に組み合わせることで、分析装置は測定対象サンプルガスの複雑なプロセス条件に適切に適応することができます。
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    CHANG AI は、幅広い種類と完全な仕様を備え、品質も高く評価されています。

    ガス分析システムは、プロセス分析システム、サンプリング前処理装置、および付属の適用保証部品(標準ガス)から構成されます。現場の適用条件とプロセス条件に前処理装置を正しく適合させ、合理的に組み合わせることで、分析装置は測定対象サンプルガスの複雑なプロセス条件に適切に適応することができます。


    CI-XT6700 発熱量高炉ガス分析システム 製品特長


    特別に設計された空気室吸収体、強力な耐干渉能力と高い検出精度を備えた狭帯域フィルター。

    高安定性赤外線光源、受信機一定温度制御、優れた機器安定性。

    ガス室の鏡面金メッキ、耐腐食性を測定。

    マイクロコンピューターのインテリジェントなモジュール設計、タッチボタン操作、LCD 大画面ブルースクリーン表示。

    絶縁出力信号 DC 0/4-20mA、オプションの通信インターフェース。

    警報出力(上限・下限極値警報、自己診断異常警報)。


    テクニカルインデックス


    反応速度

    アナライザ

    遅延時間:T₁₀≤5s

    測定範囲(カスタマイズ可能)

    立ち上がり時間:T₁₀~T₉₀≤2s


    0~99.9%  CO


    0~99.9%  CO₂


    0~99.9%   H₂

    システム

    遅延時間:T₁₀≤60秒


    立ち上がり時間:T₁₀~T₉₀≤2s

    テクニカル指標

    ゼロドリフト

    ≤±1% FS/7日

    レンジドリフト

    ≤±1% FS/7日

    再現性

    ≤0.5%

    負荷

    ≤750Ω

    アナログ信号

    DC 4~20mA

    動作条件

    ガスサンプル温度

    ≤100℃

    ガスサンプルフロー

    ≤1000mL/分

    ガスサンプルのダスト濃度

    ≤ 20mg/m³

    腐食性

    ≤ 500PPm

    労働条件

    周囲温度

    +5~+40℃

    相対湿度

    ≤85%

    電源

    AC 220V 50Hz

    消費

    ≤5KVA

    周囲の雰囲気

    高度2500m以下


    直射日光の当たらない


    強い電磁場干渉なし


    機械振動なし

    周囲の気圧

    ≤0.5m/s

    空気速度

    水平

    パージ窒素要件

    水なし、ほこりなし


    圧力:0.4-0.65Mpa


    流量:約100L/分


    ガス消費量:約0.3m³/24時間

    システムの安全性能

    システムの絶縁抵抗:システムの絶縁抵抗は5MΩ以上


    5.2 システムの絶縁強度: 1.25KVの試験電圧下では、1分間に絶縁破壊やアーク放電は発生しない。

    システム製造基準

    Q/CI-2012

    監視された生産プロセス:CHANG AIの生産プロセスは厳格かつ継続的に監視されており、24時間シフト制で高効率生産を実現しています。

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