Phân tích quy trình và phát sinh ô nhiễm của polysilicon

Phân tích quy trình và sự phát sinh ô nhiễm của polysilicon

Quá trình chuẩn bị và tinh chế hydro

Hydro được sản xuất trong một tế bào điện phân bằng phương pháp khử muối điện phân. Hydro được tạo ra bằng điện phân được làm nguội và tách bằng chất lỏng, sau đó đi vào thiết bị khử khí. Dưới tác dụng của chất xúc tác, lượng oxy vết trong khí hydro phản ứng với khí hydro để tạo ra nước và được loại bỏ. Hydro đã khử oxy được làm khô bằng một hệ thống máy sấy hấp phụ. Khí hydro tinh khiết và khô được đưa đến bể chứa hydro, sau đó được sử dụng trong các quy trình tổng hợp hydro clorua, khử triclorohydro và silicon hydro, và hydro hóa silicon tetraclorua.

Oxy được tạo ra bằng phương pháp điện phân sau khi làm nguội và tách chất lỏng sẽ được dẫn vào bể chứa oxy. Lấy oxy từ bể và cho vào chai.

Chất hấp phụ thải ra từ thiết bị tách khí-lỏng, chất xúc tác khử oxy thải ra từ thiết bị khử oxy bằng hydro và chất hấp phụ thải ra từ thiết bị sấy đều được các nhà cung cấp thu hồi và tái sử dụng.

Quá trình tổng hợp hydro clorua

Hydro từ quá trình điều chế và tinh chế hydro và hydro tuần hoàn thu hồi từ quá trình tách khô khí tổng hợp được đưa vào bình chứa hydro của quy trình và trộn lẫn trong bình. Khí hydro từ bình chứa khí hydro được dẫn vào súng đốt ở đáy lò tổng hợp hydro clorua. Khí clo từ quá trình hóa hơi clo lỏng cũng được dẫn vào súng đốt ở đáy lò tổng hợp hydro clorua thông qua bình chứa khí clo. Hỗn hợp khí hydro và clo được đốt cháy ở cửa ra của súng đốt, và khí hydro clorua được tạo ra bằng phản ứng cháy. Khí hydro clorua ra khỏi lò tổng hợp được đưa đến quy trình tổng hợp triclorosilan sau khi đi qua bộ làm mát không khí, bộ làm mát nước, bộ làm mát sâu và bộ tách sương mù.

Để đảm bảo an toàn, thiết bị được trang bị hệ thống hấp thụ khí hydro clorua, chủ yếu bao gồm hai bộ hấp thụ màng rơi hydro clorua, hai rãnh tuần hoàn axit clohydric và một bơm tuần hoàn axit clohydric, có khả năng hấp thụ khí hydro clorua thải ra do điều chỉnh tải hoặc xả khẩn cấp của thiết bị bằng nước. Hệ thống duy trì hoạt động liên tục và có thể tiếp nhận và hấp thụ khí hydro clorua thải ra từ thiết bị bất cứ lúc nào.

Để đảm bảo an toàn, quy trình vận hành được trang bị một hệ thống xử lý khí thải chứa clo, chủ yếu bao gồm tháp xử lý khí thải, bể tuần hoàn dung dịch kiềm, bơm tuần hoàn dung dịch kiềm và bộ làm mát tuần hoàn dung dịch kiềm. Khi cần thiết, clo trong bể chứa clo và đường ống có thể được dẫn vào tháp xử lý khí thải, và clo sẽ được rửa sạch và loại bỏ bằng dung dịch natri hydroxit. Hệ thống xử lý khí thải được duy trì hoạt động liên tục để đảm bảo khí chứa clo được tiếp nhận và xử lý bất cứ lúc nào.

Quá trình tổng hợp trichlorosilane

Nguyên liệu bột silic được treo lơ lửng và xả vào phễu tiếp nhận bột silic thông qua phễu xả bột silic. Bột silic được đưa từ phễu tiếp nhận vào phễu giữa phía dưới, khí trong phễu được thay thế bằng khí hydro clorua nóng và được tăng áp để cân bằng với áp suất của phễu phía dưới, sau đó bột silic được đưa vào phễu cấp bột silic phía dưới. Bột silic trong phễu cấp liệu được đưa vào ống cấp liệu của lò tổng hợp trichlorosilane bằng bộ cấp liệu hình sao được lắp đặt ở đáy phễu cấp liệu.

Khí hydro clorua từ quá trình tổng hợp hydro clorua được trộn với khí hydro clorua tuần hoàn từ bể chứa hydro clorua tuần hoàn, sau đó khí hydro clorua được đưa vào ống cấp liệu của lò tổng hợp trichlorosilane. Bột silic trong ống cấp liệu được vận chuyển từ phễu cấp bột silic, và bột silic đi vào lò tổng hợp trichlorosilane từ phía dưới.

Trong lò tổng hợp trichlorosilane, bột silic và khí hydro clorua tạo thành một lớp sôi và phản ứng để tạo ra trichlorohydrogen silicon, đồng thời tạo ra các sản phẩm như silicon tetrachloride, dihydrogen chloride silicon, metal chloride, polychlorosilane, khí hydro, và hỗn hợp khí này được gọi là khí tổng hợp trichlorohydrogen silicon. Phản ứng này tỏa nhiệt. Thành ngoài của lò tổng hợp được trang bị áo nước, và nhiệt được dẫn đi bởi nước trong áo nước để duy trì nhiệt độ của thành lò.

Khí tổng hợp chứa bột silic được đặt trên đỉnh lò tổng hợp. Sau khi một phần bột silic được loại bỏ bằng hệ thống lọc bụi khô gồm bộ thu bụi lốc xoáy ba tầng, bột silic được đưa vào hệ thống lọc bụi ướt, và được rửa bằng dung dịch silicon tetrachloride, giúp loại bỏ một phần bụi silic mịn trong khí.

Đồng thời, khí hydro ẩm được dẫn vào tiếp xúc với khí, và một phần oxit kim loại có trong khí sẽ bị thủy phân và loại bỏ. Hỗn hợp khí đã được tinh chế bằng cách loại bỏ bột silic được đưa đến quy trình tách khô khí tổng hợp.

Quá trình tách khô khí tổng hợp

Khí tổng hợp từ bước tổng hợp hydro trichlorosilane được tách thành chlorosilane lỏng, khí hydro và khí hydro clorua trong bước này và được tái chế trở lại thiết bị để sử dụng.

Dòng khí tổng hợp trichlorosilane được dẫn qua bể chứa khí hỗn hợp, sau đó đi vào tháp rửa phun và được rửa bằng dung dịch chlorosilane ở nhiệt độ thấp dưới dòng chảy phía trên của tháp. Hầu hết chlorosilane trong khí được ngưng tụ và trộn lẫn vào dung dịch rửa. Chlorosilane ở đáy tháp được bơm nén, phần lớn chlorosilane được tuần hoàn trở lại đỉnh tháp sau khi được làm mát để rửa khí, và lượng chlorosilane còn lại được đưa đến tháp phân tích hydro clorua.

Phần lớn khí clorosilane được lấy ra từ đỉnh tháp phun và rửa, được nén bằng máy nén khí hỗn hợp, làm lạnh và làm mát, sau đó được đưa đến tháp hấp thụ hydro clorua. Khí này được rửa bằng dung dịch clorosilane đã được làm lạnh và đưa từ đáy tháp phân tích hydro clorua xuống, phần lớn hydro clorua trong khí được clorosilane hấp thụ, và phần lớn clorosilane còn lại trong khí được rửa sạch và ngưng tụ. Khí ở đỉnh tháp là khí hydro chứa một lượng nhỏ hydro clorua và clorosilane, và khí hydro có độ tinh khiết cao được thu được sau khi hydro clorua và clorosilane được loại bỏ thêm bằng một nhóm thiết bị hấp phụ thay đổi nhiệt độ và áp suất. Khí hydro chảy qua bể chứa hydro, sau đó quay trở lại quy trình tổng hợp hydro clorua để tham gia vào phản ứng tổng hợp hydro clorua. Khí thải tái sinh từ thiết bị hấp phụ chứa hydro, hydro clorua và clorosilane, và được đưa đến quy trình xử lý khí thải để xử lý.

Clo silan hòa tan với khí hydro clorua ở đáy tháp hấp thụ hydro clorua được đun nóng, sau đó được kết hợp với lượng clo silan dư thừa từ đáy tháp rửa phun, rồi được đưa vào phần giữa của tháp phân tích hydro clorua. Khí hydro clorua tinh khiết được thu được ở đỉnh tháp thông qua quá trình chưng cất giảm áp. Khí hydro clorua từ tháp chảy qua bể chứa hydro clorua, sau đó được đưa đến bể chứa hydro clorua tuần hoàn được bố trí trong quá trình tổng hợp trichlorosilan; đáy tháp loại bỏ hydro clorua để thu được clorosilan lỏng tái sinh, phần lớn trong số đó được đưa trở lại tháp hấp thụ hydro clorua sau khi được làm lạnh, đông lạnh và làm mát để sử dụng làm chất hấp thụ, và lượng clorosilan lỏng dư thừa (tức là clorosilan được tách ra từ khí tổng hợp trichlorosilan) được đưa đến bể chứa nguyên liệu clorosilan của bước lưu trữ clorosilan sau khi được làm lạnh.

Quá trình tách và tinh chế clorosilane

Dung dịch chlorosilane được tách ra bằng bước tách khô khí tổng hợp được đưa vào bể chứa chlorosilane nguyên liệu của bước lưu trữ chlorosilane. Dung dịch chlorosilane được tách ra bằng bước tách khô khí thải khử được đưa vào bể chứa chlorosilane khử của bước lưu trữ chlorosilane; dung dịch chlorosilane được tách ra bằng bước tách khô khí hydride được đưa vào bể chứa hydrochlorosilane của bước lưu trữ chlorosilane. Dung dịch chlorosilane nguyên liệu, dung dịch chlorosilane khử và dung dịch hydrochlorosilane được bơm ra bằng máy bơm và đưa vào các tháp chưng cất khác nhau của quá trình tách và tinh chế chlorosilane.

Quá trình khử trichlorohydrogen silicon hydro

Trichlorosilane được tinh chế thông qua quá trình tách và tinh chế chlorosilane được đưa vào thiết bị hóa hơi trichlorosilane của quy trình, và được làm nóng và hóa hơi bằng nước nóng; Khí hydro tuần hoàn thu được từ quá trình tách khô giảm khí thải chảy qua bình chứa hydro, và cũng được đưa vào thiết bị hóa hơi để tạo thành hỗn hợp khí với hơi trichlorosilane theo một tỷ lệ nhất định.

Hỗn hợp khí trichlorosilane và hydro từ bộ hóa hơi trichlorosilane được dẫn vào lò khử. Trên bề mặt lõi silicon/thanh silicon nóng được điện hóa trong lò khử, phản ứng khử hydro xảy ra với trichlorosilane, tạo ra và lắng đọng silicon, khiến đường kính của lõi silicon/thanh silicon dần dần lớn lên cho đến khi đạt kích thước quy định. Phản ứng khử hydro đồng thời tạo ra silicon dihydrogen chloride, silicon tetrachloride, hydro chloride và hydro, và được dẫn ra lò khử cùng với silicon trihydrogen chloride chưa phản ứng và hydro, được làm mát bằng nước làm mát tuần hoàn của bộ làm mát khí thải khử, sau đó được đưa trực tiếp đến quá trình tách khô khí thải khử.

Nước nóng được dẫn vào lớp vỏ của thùng lò khử để loại bỏ nhiệt lượng tỏa ra từ lõi silic nóng trong lò lên thành trong của thùng lò và duy trì nhiệt độ của thành trong thùng lò. Nước nóng ở nhiệt độ cao trong lớp vỏ của xi lanh xả được đưa đến quy trình làm việc thu hồi năng lượng nhiệt, và sau khi hơi nước được tạo ra bởi nồi hơi thu hồi nhiệt thải và được làm nguội, nước nóng được tái sử dụng cho từng lớp vỏ lò khử của quy trình làm việc.

Sau khi lõi silicon được lắp đặt trong lò khử, bơm chân không phun nước được sử dụng để hút chân không trước khi vận hành, khí nitơ được sử dụng để thay thế không khí trong lò, khí hydro được sử dụng để thay thế nitơ trong lò (nitơ được thải ra ngoài), sau đó tiến hành quá trình gia nhiệt. Do đó, nitơ được thải ra không khí xung quanh trong giai đoạn vận hành, và cần một lượng nhỏ nước cho bơm chân không (có thể thải ra dưới dạng nước sạch); Trong giai đoạn tắt và mở lò (khoảng 5-7 ngày một lần), hỗn hợp khí chứa clorosilan, hydro clorua và hydro trong lò khử trước tiên được ép vào hệ thống thu hồi khí thải khô của lò khử để thu hồi bằng khí hydro, sau đó khí nitơ được thay thế và thải ra ngoài, sản phẩm polysilicon được lấy ra, điện cực than chì phế thải được loại bỏ, và nước siêu tinh khiết trong lò được rửa theo tình hình, do đó, khí nitơ, than chì phế thải và nước thải làm sạch được tạo ra trong giai đoạn tắt lò. Khí nitơ là khí vô hại, do đó, trong điều kiện bình thường, lò khử khi mở và ở giai đoạn dừng không có khí độc hại thải ra. Than chì phế thải được thu hồi từ nhà máy sản xuất ban đầu, và nước thải sau quá trình làm sạch được đưa đến hệ thống xử lý nước thải kiềm-axit có chứa clorua để xử lý.

Quá trình tách khô để giảm khí thải

Khí thải từ bước khử hydro bằng trichlorosilane được tách thành chlorosilane lỏng, hydro và khí hydro clorua thông qua bước này, và khí thải được tái chế vào thiết bị để sử dụng.

Nguyên lý và quy trình tách khô khí thải khử rất giống với quy trình tách khô triclorosilan. Hydro có độ tinh khiết cao thu được từ đầu ra của thiết bị hấp phụ thay đổi nhiệt độ và áp suất chảy qua bể chứa hydro, và phần lớn hydro được đưa trở lại quy trình khử hydro-silicon-triclorua để tham gia vào quá trình điều chế polysilicon, và lượng hydro dư thừa được đưa đến quy trình hydro hóa silicon-tetraclorua để tham gia vào quá trình hydro hóa silicon-tetraclorua; Thiết bị hấp phụ tái tạo khí thải và đưa nó đến quy trình xử lý khí thải để xử lý; Khí hydro clorua tinh khiết được thu được từ đỉnh tháp phân tích hydro clorua và được đưa đến bể chứa hydro clorua tuần hoàn được bố trí trong quy trình tổng hợp silicon-triclorua-hydro; Chất lỏng clorosilan dư thừa (tức là clorosilan được tách ra từ khí thải của quá trình khử hydro-triclorua) được chiết xuất từ ​​đáy tháp phân tích hydro clorua được đưa vào bể chứa clorosilan đã khử của bước lưu trữ clorosilan.

Quá trình hydro hóa silicon tetrachloride

Silicon tetrachloride tinh chế thông qua quá trình tách và tinh chế chlorosilane được đưa vào thiết bị hóa hơi silicon tetrachloride của quy trình, và được làm nóng và hóa hơi bằng nước nóng. Hydro từ quá trình điều chế và tinh chế hydro và lượng hydro dư thừa từ quá trình tách khô khí thải khử được trộn lẫn trong một bình chứa hydro, sau đó hydro cũng được đưa vào thiết bị hóa hơi để tạo thành hỗn hợp khí với hơi silicon tetrachloride theo một tỷ lệ nhất định.

Hỗn hợp khí silicon tetrachloride và hydro từ thiết bị hóa hơi silicon tetrachloride được dẫn vào lò hydro hóa. Phản ứng hydro hóa silicon tetrachloride diễn ra gần bề mặt điện cực nóng được cấp điện trong lò hydro hóa, đồng thời tạo ra silicon trichlorohydride và hydro clorua. Hỗn hợp khí chứa trichlorosilane, hydro clorua, silicon tetrachloride chưa phản ứng và hydro được dẫn đến quy trình tách hydro khô.

Nước nóng được dẫn vào lớp vỏ của thùng lò hydro hóa để loại bỏ nhiệt lượng tỏa ra từ điện cực nóng trong lò truyền đến thành trong của thùng lò và duy trì nhiệt độ của thành trong thùng lò. Nước nóng ở nhiệt độ cao trong lớp vỏ của xi lanh xả được đưa đến quy trình vận hành thu hồi năng lượng nhiệt, và sau khi hơi nước được tạo ra bởi nồi hơi thu hồi nhiệt thải và được làm nguội, nước nóng được tuần hoàn trở lại lớp vỏ lò hydro hóa của quy trình vận hành.

quá trình tách khô khí hydro hóa

Khí hydro sinh ra từ quá trình hydro hóa silicon tetrachloride được tách thành clorosilane lỏng, khí hydro và khí hydro clorua thông qua quá trình này, và khí hydro được tái chế trở lại thiết bị để sử dụng.

Nguyên lý và quy trình tách khô khí hydro rất giống với quy trình tách khô trichlorosilane. Hydro tinh khiết cao thu được từ đầu ra của thiết bị hấp phụ thay đổi nhiệt độ và áp suất được đưa trở lại quy trình hydro hóa silicon tetrachloride để tham gia vào quá trình hydro hóa silicon tetrachloride sau khi đi qua bể chứa hydro; Khí thải đã được hấp thụ và tái tạo được đưa đến quy trình xử lý khí thải để xử lý; Khí hydro clorua tinh khiết được thu được từ đỉnh tháp phân tích hydro clorua và được đưa đến bể chứa hydro clorua tuần hoàn được bố trí trong quy trình tổng hợp silicon hydro triclorua; Chất lỏng chlorosilane dư thừa (tức là chlorosilane được tách ra từ khí hydrua) được chiết xuất từ ​​đáy tháp phân tích hydro clorua được đưa vào bể chứa hydrochlorosilane của bước lưu trữ chlorosilane.

Quá trình lưu trữ chlorosilane

Các bể chứa sau được bố trí trong quy trình: bể chứa chlorosilane 100m³, bể chứa trichlorosilane công nghiệp 100m³, bể chứa tetrachlorosilane công nghiệp 100m³, bể xả khẩn cấp chlorosilane 100m³, v.v.

Dung dịch chlorosilane thu được từ bước tách khô khí tổng hợp, bước tách khô khí thải khử và bước tách khô khí hydro hóa được lần lượt đưa vào bể chứa nguyên liệu, bể chứa khử và bể chứa hydrochlorosilane. Sau đó, dung dịch chlorosilane được sử dụng làm nguyên liệu cho các tháp chưng cất khác nhau trong bước tách và tinh chế chlorosilane.

Hỗn hợp dung dịch trichlorosilane và dichlorodihydrosilicon thu được ở đỉnh tháp chưng cất giai đoạn đầu tiên trong quá trình tách và tinh chế chlorosilane, dung dịch trichlorosilane thu được ở đáy tháp chưng cất giai đoạn thứ tư và dung dịch trichlorosilane thu được ở đáy tháp chưng cất giai đoạn thứ sáu, tháp chưng cất giai đoạn thứ tám và tháp chưng cất giai đoạn thứ mười được chuyển đến bể chứa trichlorosilane cấp công nghiệp, và dung dịch này được trộn lẫn trong bể và bán ra thị trường dưới dạng sản phẩm trichlorosilane cấp công nghiệp.

Quy trình chuẩn bị lõi silicon

Công nghệ kéo và cắt bằng lò phân vùng được áp dụng để gia công và chuẩn bị lõi silicon dẫn điện cần thiết để lắp đặt trong lò trong quá trình sản xuất ban đầu của lò khử. Trong quá trình chuẩn bị lõi silicon, lõi silicon cần được ăn mòn bằng axit flohydric và axit nitric, sau đó được làm sạch bằng nước siêu tinh khiết và sấy khô. Khí hydro florua và khí nitơ oxit sẽ thoát ra không khí trong quá trình xử lý ăn mòn bằng axit, vì vậy quạt được sử dụng để hút khí hydro florua và khí nitơ oxit qua nắp gió được che ở phần trên của bể xử lý ăn mòn bằng axit, sau đó khí được dẫn đến thiết bị xử lý khí thải để xử lý và khí thải được thải ra theo tiêu chuẩn.

Hoạt động phân loại sản phẩm

Thanh polysilicon được sản xuất trong lò khử được lấy ra khỏi lò, cắt nhỏ và nghiền thành các khối polysilicon lớn. Khối polysilicon được ăn mòn bằng axit flohydric và axit nitric, sau đó được làm sạch bằng nước siêu tinh khiết và sấy khô. Khí hydro florua và khí nitơ oxit sẽ thoát ra không khí trong quá trình xử lý ăn mòn bằng axit, vì vậy quạt được sử dụng để hút khí hydro florua và khí nitơ oxit qua lớp chắn gió được che phủ ở phần trên của bể xử lý ăn mòn bằng axit, sau đó khí được dẫn đến thiết bị xử lý khí thải để xử lý, và khí thải được thải ra theo tiêu chuẩn. Sản phẩm polysilicon dạng khối đã được kiểm tra đạt chỉ tiêu chất lượng quy định sẽ được giao để đóng gói.

Quy trình xử lý khí thải và chất thải

1. Làm sạch khí thải chứa hydro clorua

Khí thải phát sinh trong quá trình tinh chế SiHCl1, việc tắt lò khử, sự cố xả khí thải, khí thải an toàn từ bể chứa chlorosilane và hydro clorua, và khí thải hấp phụ CDI đều được dẫn đến tháp lọc khí thải bằng đường ống để xử lý.

Sau khi khí thải được liên tục rửa bằng dung dịch NaOH 10% trong tháp lọc, dung dịch rửa ở đáy tháp được bơm vào quy trình xử lý chất thải công nghệ, và khí thải được thải ra ngoài qua một ống xả có chiều cao 15m.

2. Xử lý chất thải

Chất lỏng cặn còn lại của lò phản ứng chủ yếu chứa silicon tetrachloride và các hợp chất polychlorosilane, cùng với chất lỏng cặn chlorosilane thải ra từ tháp chưng cất và thiết bị dừng, được đưa đến quy trình để xử lý.

Chất lỏng cần xử lý được dẫn vào bể chứa cặn. Sau đó, chất lỏng được ép ra bằng khí nitơ và đưa đến tháp lọc cặn để rửa. Dung dịch kiềm NaOH 10% được sử dụng để xử lý. Chlorosilane trong chất lỏng thải phản ứng với NaOH và nước, chuyển hóa thành các chất vô hại (nguyên tắc xử lý là sử dụng khí thải chứa hydro clorua và chlorosilane).

3. Khí thải có tính axit

Khí thải axit sinh ra trong quá trình chuẩn bị lõi silicon và hoàn thiện sản phẩm được bơm vào hệ thống xử lý khí thải thông qua một nắp thu khí. Khí thải axit được rửa bằng dung dịch sữa vôi 10% trong tháp phun để loại bỏ khí thải chứa flo, đồng thời, amoniac được thêm vào dung dịch rửa để khử phần lớn NOx thành N2 và H2O. Sau khi khí được khử ẩm sau quá trình rửa, lượng NOx còn lại trong khí được hấp thụ bởi chất hấp phụ SDG thông qua phương pháp hấp phụ rắn (sử dụng kim loại không quý làm chất xúc tác), sau đó được thải ra ngoài qua ống xả có chiều cao 20m.

Xử lý bột silicon phế thải

Bột silic thải ra từ bộ thu bụi nạp liệu bột silic nguyên liệu, bộ thu bụi ly tâm của xưởng tổng hợp silic triclorohydride và lò phản ứng tổng hợp được vận chuyển vào phễu chứa xỉ thải thông qua bể chứa xỉ thải, đi vào ống rửa axit có máy khuấy, khử kiềm bột silic thải (bụi) bằng axit clohydric 11%, và hòa tan các tạp chất như nhôm, sắt và canxi trong silic thải. Sau khi rửa xong, cặn thải được lọc bằng máy ép lọc, đưa đến máy sấy để làm khô, bột silic khô được đưa trở lại chu trình tổng hợp triclorosilane để sử dụng, và chất lỏng thải được thu gom vào hệ thống xử lý nước thải và xử lý cùng với khí thải.

Khí thải chứa HCl thải ra từ bể tẩy gỉ và bể lọc được dẫn đến hệ thống xử lý cặn khí thải để xử lý.

Quy trình xử lý chất thải

1. Xử lý chất thải lỏng loại I

Nước thải chứa axit được xử lý bằng nước rửa tháp rửa và bột silic thải được trộn lẫn, trung hòa và lắng trong quá trình này, sau đó được lọc bằng máy ép lọc. Phần cặn lọc (chủ yếu là SiO2) sẽ được chuyển đến Nhà máy Xi măng để sản xuất xi măng (xem Phụ lục). Phần nước lắng và nước lọc chủ yếu là nước thải chứa muối có nồng độ cao, chứa NaCl từ 200 g/L trở lên, phần nước không đưa ion canxi, magie và ion sunfat vào trong quá trình vận hành và xử lý, và chất lượng nước đáp ứng yêu cầu sản xuất clo-kiềm, do đó đường ống dẫn nước thải chứa muối được vận chuyển đến dây chuyền sản xuất xút ăn da của Công ty TNHH Tứ Xuyên Yongxiang làm nguyên liệu sản xuất để tái chế (xem Phụ lục). Nước ngưng tụ bay hơi được tái sử dụng để pha chế dung dịch kiềm.

2. Xử lý chất thải lỏng loại II

Axit flohydric thải, axit nitric thải và nước thải rửa axit từ quá trình chuẩn bị lõi silicon và quá trình hoàn thiện sản phẩm được trung hòa và lắng bằng dung dịch nhũ tương vôi 10%, lọc bằng máy ép lọc, và phần cặn lọc (chủ yếu là CaF2) được gửi đến nhà máy xi măng để sản xuất xi măng (xem Phụ lục). Dung dịch lắng và nước lọc chủ yếu là dung dịch canxi nitrat, và sau khi bay hơi và cô đặc, dung dịch được bán làm sản phẩm phụ (xem Phụ lục). Nước ngưng tụ bay hơi được tái sử dụng để pha chế dung dịch kiềm.