Analyse du flux de processus et de la génération de pollution du polysilicium
Analyse du flux de procédé et de la génération de pollution du polysilicium
procédé de préparation et de purification de l'hydrogène
L'hydrogène est produit dans une cellule électrolytique par dessalement par électrolyse. L'hydrogène ainsi produit est refroidi et séparé par un liquide, puis introduit dans un désaérateur. Sous l'action d'un catalyseur, les traces d'oxygène présentes dans l'hydrogène gazeux réagissent avec ce dernier pour former de l'eau, qui est ensuite éliminée. L'hydrogène désoxygéné est séché par une série de sécheurs à adsorption. L'hydrogène purifié et séché est alors stocké dans un réservoir, puis acheminé vers les procédés de synthèse du chlorure d'hydrogène, de réduction du trichlorhydrogène et de l'hydrogène de silicium, ainsi que vers les procédés d'hydrogénation du tétrachlorure de silicium.
L'oxygène produit par électrolyse est refroidi et séparé du liquide avant d'être stocké dans un réservoir. On transvase ensuite l'oxygène du réservoir dans une bouteille.
L'adsorbant usé rejeté par le séparateur gaz-liquide, le catalyseur de désoxydation usé rejeté par le désoxydant à hydrogène et l'adsorbant usé rejeté par le sécheur sont tous récupérés et réutilisés par les fournisseurs.
procédé de synthèse du chlorure d'hydrogène
L'hydrogène issu des procédés de préparation et de purification, ainsi que l'hydrogène recyclé provenant de la séparation à sec du gaz de synthèse, sont respectivement introduits dans le réservoir tampon d'hydrogène et mélangés. Ce gaz est ensuite injecté dans le canon à combustion situé au fond du four de synthèse du chlorure d'hydrogène. Le chlore gazeux, issu de la vaporisation du chlore liquide, est également introduit dans ce canon à combustion via le réservoir tampon de chlore. Le mélange d'hydrogène et de chlore est enflammé à la sortie du canon à combustion, produisant ainsi du chlorure d'hydrogène. Ce dernier, après passage dans un refroidisseur à air, un refroidisseur à eau, un refroidisseur profond et un séparateur de brouillard, est envoyé vers l'unité de synthèse du trichlorosilane.
Pour garantir la sécurité, l'appareil est équipé d'un système d'absorption du chlorure d'hydrogène gazeux. Ce système se compose principalement de deux absorbeurs à film tombant de chlorure d'hydrogène, de deux canaux de circulation d'acide chlorhydrique et d'une pompe de circulation d'acide chlorhydrique. Il permet d'absorber le chlorure d'hydrogène gazeux rejeté lors du réglage de la charge ou d'une purge d'urgence par eau. Le système fonctionne en continu et peut recevoir et absorber le chlorure d'hydrogène gazeux rejeté par l'appareil à tout moment.
Afin de garantir la sécurité, le procédé de travail prévoit un système de traitement des gaz résiduaires chlorés, composé principalement d'une tour de traitement des gaz d'échappement, d'un réservoir de circulation de liquide alcalin, d'une pompe de circulation de liquide alcalin et d'un refroidisseur de circulation de liquide alcalin. Au besoin, le chlore contenu dans le réservoir tampon et acheminé par canalisation peut être dirigé vers la tour de traitement des gaz résiduaires, où il est lavé et éliminé par une solution aqueuse d'hydroxyde de sodium. Le système de traitement des gaz résiduaires fonctionne en continu afin d'assurer la réception et le traitement permanents des gaz chlorés.
Procédé de synthèse du trichlorosilane
La poudre de silicium brute est mise en suspension et déversée dans la trémie de réception via la trémie de déchargement. La poudre de silicium est ensuite introduite dans la trémie intermédiaire inférieure. Le gaz contenu dans cette trémie est remplacé par du chlorure d'hydrogène chaud et la pression est augmentée jusqu'à équilibrer avec celle de la trémie inférieure. La poudre de silicium est alors transférée dans la trémie d'alimentation inférieure. Enfin, la poudre de silicium contenue dans la trémie d'alimentation est acheminée vers le conduit d'alimentation du four de synthèse du trichlorosilane par un alimentateur en étoile installé au fond de la trémie.
Le chlorure d'hydrogène issu du procédé de synthèse du chlorure d'hydrogène est mélangé avec le chlorure d'hydrogène circulant provenant du réservoir tampon de chlorure d'hydrogène circulant, puis le chlorure d'hydrogène est introduit dans le tuyau d'alimentation du four de synthèse du trichlorosilane, la poudre de silicium contenue dans le tuyau d'alimentation est transportée depuis la trémie d'alimentation en poudre de silicium, et la poudre de silicium pénètre dans le four de synthèse du trichlorosilane par le bas.
Dans un four de synthèse de trichlorosilane, la poudre de silicium et le chlorure d'hydrogène gazeux forment un lit frémissant et réagissent pour former du trichlorohydrogène de silicium. Simultanément, des produits tels que le tétrachlorure de silicium, le dichlorure de silicium, des chlorures métalliques, du polychlorosilane et du dihydrogène sont produits. Le mélange gazeux ainsi formé est appelé gaz de synthèse de trichlorohydrogène de silicium. La réaction est exothermique. La paroi extérieure du four est munie d'une double enveloppe d'eau qui évacue la chaleur et maintient la température de cette paroi.
Le gaz synthétique contenant de la poudre de silicium est placé au-dessus du four de synthèse. Après qu'une partie de la poudre de silicium a été éliminée par un système de dépoussiérage à sec composé d'un dépoussiéreur cyclonique à trois étages, la poudre de silicium est envoyée dans un système de dépoussiérage humide, où elle est lavée avec du tétrachlorure de silicium liquide, ce qui permet d'éliminer une partie de la fine poussière de silicium présente dans le gaz.
Simultanément, de l'hydrogène humide est mis en contact avec le gaz, ce qui provoque l'hydrolyse et l'élimination d'une partie de l'oxyde métallique qu'il contient. Le gaz ainsi purifié, débarrassé de la poudre de silicium, est ensuite envoyé vers une unité de séparation à sec pour la synthèse de gaz.
procédé de séparation à sec du gaz synthétique
Le gaz de synthèse issu de l'étape de synthèse de l'hydrogène à partir du trichlorosilane est séparé en chlorosilane liquide, en hydrogène gazeux et en chlorure d'hydrogène gazeux au cours de cette étape, puis recyclé vers l'appareil pour être utilisé.
Le flux de trichlorosilane de synthèse gazeux traverse un réservoir tampon de mélange gazeux, puis pénètre dans une tour de lavage par pulvérisation. Il est lavé par du chlorosilane liquide à basse température sous le flux supérieur de la tour. La majeure partie du chlorosilane gazeux est condensée et mélangée au liquide de lavage. Le chlorosilane situé au bas de la tour est mis sous pression par une pompe. Après refroidissement, la majeure partie est recirculée vers le haut de la tour pour le lavage gazeux, et le chlorosilane résiduel est envoyé à la tour d'analyse du chlorure d'hydrogène.
La majeure partie du chlorosilane gazeux est extraite en haut de la tour de pulvérisation et de lavage, comprimée par un compresseur de gaz mixte, refroidie, puis envoyée vers une tour d'absorption du chlorure d'hydrogène. Elle est lavée par le chlorosilane liquide, lui aussi refroidi, qui sort par le bas de la tour d'analyse du chlorure d'hydrogène. La majeure partie du chlorure d'hydrogène contenu dans le gaz est absorbée par le chlorosilane, et la majeure partie du chlorosilane restant est lavée et condensée. Le gaz en tête de tour est de l'hydrogène gazeux contenant des traces de chlorure d'hydrogène et de chlorosilane. De l'hydrogène gazeux de haute pureté est obtenu après élimination du chlorure d'hydrogène et du chlorosilane par un ensemble d'adsorbeurs à pression et température variables. L'hydrogène circule ensuite dans un réservoir tampon, puis retourne au procédé de synthèse du chlorure d'hydrogène pour participer à la réaction. Le gaz résiduaire régénéré de l'adsorbeur contient de l'hydrogène, du chlorure d'hydrogène et du chlorosilane, et est envoyé vers le procédé de traitement des gaz résiduaires.
Le chlorhydrate de silane dissous dans le chlorure d'hydrogène gazeux au fond de la tour d'absorption du chlorure d'hydrogène est chauffé, puis combiné avec le chlorhydrate de silane excédentaire provenant du fond de la tour de lavage par pulvérisation. Ce mélange est ensuite envoyé dans la partie centrale de la tour d'analyse du chlorure d'hydrogène, où le chlorure d'hydrogène gazeux purifié est obtenu en tête de tour par distillation sous pression réduite. Le chlorure d'hydrogène gazeux de la tour traverse un réservoir tampon de chlorure d'hydrogène, puis est envoyé vers le réservoir tampon de chlorure d'hydrogène en circulation, intégré au procédé de synthèse du trichlorosilane. Le chlorure d'hydrogène est séparé en fond de tour pour obtenir le chlorosilane liquide régénéré. La majeure partie de ce chlorosilane est renvoyée à la tour d'absorption du chlorure d'hydrogène après refroidissement, puis congelée et refroidie à nouveau pour être utilisée comme absorbant. Le chlorosilane liquide excédentaire (c'est-à-dire le chlorosilane séparé du gaz de synthèse du trichlorosilane) est envoyé, après refroidissement, vers le réservoir de stockage du chlorosilane de l'étape de stockage.
Procédé de séparation et de purification du chlorosilane
Le chlorosilane liquide, séparé par l'étape de séparation à sec du gaz de synthèse, est introduit dans un réservoir de stockage de chlorosilane provenant de la matière première de l'étape de stockage du chlorosilane. Le chlorosilane liquide, séparé par l'étape de séparation à sec des gaz résiduaires de réduction, est envoyé dans un réservoir de stockage de chlorosilane de réduction de l'étape de stockage du chlorosilane. Le chlorosilane liquide (matière première), le chlorosilane liquide de réduction et l'hydrochlorosilane liquide sont respectivement pompés et envoyés dans différentes tours de rectification du procédé de séparation et de purification du chlorosilane.
procédé de réduction de l'hydrogène par le trichlorohydrogène et le silicium
Le trichlorosilane raffiné par le procédé de séparation et de purification du chlorosilane est introduit dans le vaporisateur de trichlorosilane du procédé, puis chauffé et vaporisé par de l'eau chaude ; l'hydrogène gazeux circulant, renvoyé par le procédé de séparation à sec des gaz résiduaires de réduction, traverse un réservoir tampon d'hydrogène et est également introduit dans un vaporisateur pour former un gaz mixte avec de la vapeur de trichlorosilane dans une certaine proportion.
Le mélange gazeux de trichlorosilane et d'hydrogène provenant du vaporisateur de trichlorosilane est introduit dans un four de réduction. À la surface du noyau/barre de silicium chauffé(e) dans le four, une réaction de réduction de l'hydrogène se produit avec le trichlorosilane, générant et déposant du silicium. Le diamètre du noyau/barre de silicium augmente ainsi progressivement jusqu'à atteindre la dimension souhaitée. Cette réaction de réduction produit simultanément du chlorure de dihydrogène de silicium, du tétrachlorure de silicium, du chlorure d'hydrogène et de l'hydrogène. Ces composés sont renvoyés dans le four de réduction avec le chlorure de trihydrogène de silicium et l'hydrogène n'ayant pas réagi, puis refroidis par l'eau de refroidissement en circulation du refroidisseur de gaz résiduaires de réduction. Ils sont ensuite directement dirigés vers l'unité de séparation à sec des gaz résiduaires de réduction.
L'eau chaude est introduite dans la double enveloppe du cylindre du four de réduction afin d'évacuer la chaleur rayonnée par le noyau de silicium chaud du four vers la paroi interne du cylindre et de maintenir la température de cette dernière. L'eau chaude à haute température de la double enveloppe du cylindre de décharge est envoyée vers le système de récupération d'énergie thermique. Après production de vapeur par la chaudière de récupération de chaleur et refroidissement, l'eau chaude est recyclée pour alimenter chaque double enveloppe du four de réduction.
Après l'installation du noyau de silicium dans le four de réduction, une pompe à vide à jet d'eau est utilisée pour créer le vide avant la mise en marche. L'air du four est remplacé par de l'azote, puis l'azote est remplacé par de l'hydrogène (l'azote est ensuite évacué). L'opération de chauffage peut alors commencer. L'azote est ainsi rejeté dans l'air ambiant pendant la phase de mise en marche, et une petite quantité d'eau est nécessaire pour la pompe à vide (qui peut être évacuée proprement). Lors des phases d'arrêt et de redémarrage du four (environ 5 à 7 jours par cycle), le mélange gazeux contenant du chlorosilane, du chlorure d'hydrogène et de l'hydrogène présent dans le four de réduction est d'abord acheminé vers le système de récupération à sec des gaz résiduaires de réduction pour être récupéré sous forme d'hydrogène. L'azote est ensuite remplacé puis évacué. Le polysilicium est extrait, l'électrode de graphite usée est retirée et l'eau ultrapure présente dans le four est utilisée pour le lavage, selon les besoins. Ainsi, lors de l'arrêt du four, de l'azote, du graphite usé et des eaux usées de nettoyage sont générés. L'azote étant un gaz inoffensif, le four de réduction fonctionne normalement sans rejet de gaz nocifs à l'arrêt. Le graphite résiduel est récupéré de l'usine de production d'origine, et les eaux usées de nettoyage sont envoyées vers une station d'épuration des eaux usées acides-alcalines chlorées.
Procédé de séparation à sec pour la réduction des gaz résiduaires
Le gaz résiduel de réduction de l'étape de réduction de l'hydrogène du trichlorosilane est séparé en chlorosilane liquide, en hydrogène et en chlorure d'hydrogène gazeux au cours de cette étape, et le gaz résiduel est respectivement recyclé vers l'appareil pour être utilisé.
Le principe et le procédé de séparation à sec des gaz résiduaires de réduction sont très similaires à ceux de la séparation à sec du trichlorosilane. L'hydrogène de haute pureté, obtenu à la sortie de l'adsorbeur à pression et température variables, traverse un réservoir tampon d'hydrogène. La majeure partie de cet hydrogène est réinjectée dans le procédé de réduction du trichlorure d'hydrogène en silicium pour la préparation du polysilicium, tandis que le surplus est envoyé au procédé d'hydrogénation du tétrachlorure de silicium. L'adsorbeur régénère les gaz résiduaires qui sont ensuite traités. Le chlorure d'hydrogène purifié est récupéré en haut de la tour d'analyse et envoyé dans un réservoir tampon de chlorure d'hydrogène en circuit fermé, intégré au procédé de synthèse du trichlorure d'hydrogène en silicium. Le chlorosilane liquide excédentaire (issu de la séparation des gaz résiduaires de la réduction du trichlorure d'hydrogène) extrait en bas de la tour d'analyse est stocké dans un réservoir de chlorosilane réduit, lors de l'étape de stockage.
procédé d'hydrogénation du tétrachlorure de silicium
Le tétrachlorure de silicium raffiné, obtenu par séparation et purification du chlorosilane, est introduit dans le vaporisateur de tétrachlorure de silicium du procédé, puis chauffé et vaporisé par de l'eau chaude. L'hydrogène issu de la préparation et de la purification de l'hydrogène, ainsi que l'hydrogène excédentaire provenant de la séparation à sec des gaz résiduaires de réduction, sont mélangés dans un réservoir tampon d'hydrogène. Cet hydrogène est ensuite introduit dans un vaporisateur afin de former un mélange gazeux contenant une certaine proportion de vapeur de tétrachlorure de silicium.
Le mélange gazeux de tétrachlorure de silicium et d'hydrogène provenant du vaporisateur de tétrachlorure de silicium est introduit dans le four d'hydrogénation. La réaction d'hydrogénation du tétrachlorure de silicium se produit à proximité de la surface de l'électrode chaude, électrifiée dans le four, générant ainsi simultanément du trichlorhydrure de silicium et du chlorure d'hydrogène. Le mélange gazeux contenant du trichlorosilane, du chlorure d'hydrogène, du tétrachlorure de silicium n'ayant pas réagi et de l'hydrogène est ensuite dirigé vers l'unité de séparation à sec de l'hydrogène.
De l'eau chaude est introduite dans la double enveloppe du cylindre du four d'hydrogénation afin d'évacuer la chaleur rayonnée par l'électrode chaude vers la paroi interne du cylindre et de maintenir la température de cette dernière. L'eau chaude à haute température de la double enveloppe du cylindre de décharge est envoyée vers le système de récupération d'énergie thermique. Après production de vapeur par la chaudière de récupération de chaleur et refroidissement, l'eau chaude est recyclée dans la double enveloppe du four d'hydrogénation.
procédé de séparation à sec du gaz d'hydrogénation
Le gaz hydrogène issu du procédé d'hydrogénation du tétrachlorure de silicium est séparé en chlorosilane liquide, en gaz hydrogène et en gaz chlorure d'hydrogène au cours du procédé, et le gaz hydrogène est respectivement recyclé vers l'appareil pour être utilisé.
Le principe et le procédé de séparation à sec de l'hydrogène gazeux sont très similaires à ceux de la séparation à sec du trichlorosilane. L'hydrogène de haute pureté obtenu à la sortie de l'adsorbeur à pression et température variables est réintroduit dans le procédé d'hydrogénation du tétrachlorure de silicium après passage dans un réservoir tampon d'hydrogène. Les gaz résiduaires régénérés et absorbés sont envoyés au procédé de traitement des gaz résiduaires. Le chlorure d'hydrogène gazeux purifié est récupéré en haut de la tour d'analyse du chlorure d'hydrogène et envoyé dans un réservoir tampon de chlorure d'hydrogène en circuit fermé, intégré au procédé de synthèse du trichlorohydrogénosilane. Le chlorosilane liquide en excès (c'est-à-dire le chlorosilane séparé de l'hydrure gazeux) extrait en bas de la tour d'analyse du chlorure d'hydrogène est introduit dans le réservoir de stockage d'hydrochlorosilane de l'étape de stockage du chlorosilane.
procédé de stockage du chlorosilane
Le procédé comprend les réservoirs de stockage suivants : réservoir de stockage de chlorosilane de 100 m³, réservoir de stockage de trichlorosilane de qualité industrielle de 100 m³, réservoir de stockage de tétrachlorosilane de qualité industrielle de 100 m³, réservoir de décharge d’urgence de chlorosilane de 100 m³, etc.
Le chlorosilane liquide obtenu à partir de l'étape de séparation à sec du gaz de synthèse, de l'étape de séparation à sec du gaz résiduaire de réduction et de l'étape de séparation à sec du gaz d'hydrogénation est respectivement introduit dans un réservoir de matières premières, un réservoir de réduction et un réservoir de stockage d'hydrochlorosilane, puis le chlorosilane liquide est respectivement introduit comme matière première dans différentes tours de rectification de l'étape de séparation et de purification du chlorosilane.
Le mélange liquide de trichlorosilane et de dichlorodihydrosilicium obtenu en haut de la première tour de rectification lors du processus de séparation et de purification du chlorosilane, le liquide de trichlorosilane obtenu en bas de la quatrième tour de rectification, ainsi que le liquide de trichlorosilane obtenu en bas des sixième, huitième et dixième tours de rectification, sont envoyés dans un réservoir de stockage de trichlorosilane de qualité industrielle, où les liquides sont mélangés et vendus sous forme de produits à base de trichlorosilane de qualité industrielle.
processus de préparation du noyau de silicium
La technologie d'étirage et de découpe par zone est utilisée pour la fabrication et la préparation du noyau conducteur en silicium destiné à être installé dans le four lors de la production initiale du four de réduction. Lors de la préparation du noyau de silicium, celui-ci est d'abord corrodé à l'acide fluorhydrique et à l'acide nitrique, puis rincé à l'eau ultrapure et enfin séché. Le traitement de corrosion acide génère du fluorure d'hydrogène et des oxydes d'azote dans l'air. Un ventilateur aspire ces gaz à travers le couvercle situé sur la partie supérieure de la cuve de traitement, puis les dirige vers un dispositif de traitement des gaz d'échappement. Les gaz d'échappement sont ensuite rejetés conformément aux normes en vigueur.
opération de tri des produits
La barre de polysilicium produite dans le four de réduction est retirée, découpée et concassée en blocs de polysilicium. Ces blocs sont ensuite traités par corrosion acide à l'acide fluorhydrique et à l'acide nitrique, puis rincés à l'eau ultrapure et enfin séchés. Le traitement de corrosion acide génère du fluorure d'hydrogène et des oxydes d'azote dans l'atmosphère. Un ventilateur aspire ces gaz à travers la grille d'aération située au-dessus de la cuve de traitement, puis les dirige vers un système de traitement des gaz d'échappement. Les gaz évacués sont ensuite rejetés conformément aux normes en vigueur. Le polysilicium en vrac, répondant aux critères de qualité spécifiés, est conditionné.
procédé de traitement des gaz résiduaires et des résidus
1. Purification des gaz résiduaires contenant du chlorure d'hydrogène
Les gaz résiduaires rejetés lors du processus de purification du SiHCl1, de l'arrêt du four de réduction, du rejet accidentel de gaz résiduaires, des gaz de rejet sécurisés du réservoir de stockage du chlorosilane et du chlorure d'hydrogène, ainsi que des gaz résiduaires d'adsorption du CDI sont tous envoyés par canalisations à la tour de lixiviation des gaz résiduaires pour y être lavés.
Après que les gaz d'échappement soient lavés en continu par du NaOH à 10 % dans la tour de lixiviation, le liquide de lavage au fond de la tour est pompé dans le processus de traitement des déchets technologiques, et les gaz résiduaires sont évacués par un cylindre d'échappement d'une hauteur de 15 m.
2. Traitement des résidus
Le liquide résiduel du réacteur, contenant principalement du tétrachlorure de silicium et des composés de polychlorosilane, ainsi que le liquide résiduel du chlorosilane évacué de la tour de rectification et par le dispositif d'arrêt, sont envoyés au procédé pour traitement.
Le liquide à traiter est introduit dans une cuve de collecte des résidus. Il est ensuite pressé à l'azote et envoyé à la tour de lixiviation des résidus pour lavage. Une solution de soude caustique à 10 % (NaOH) a été utilisée pour le traitement. Le chlorosilane présent dans le liquide résiduaire réagit avec la soude caustique et l'eau et est transformé en substances inoffensives (le principe de traitement repose sur l'utilisation de gaz résiduaires contenant du chlorure d'hydrogène et du chlorosilane).
3. Gaz résiduaires acides
Les gaz résiduaires acides générés lors de la préparation des noyaux de silicium et de la finition des produits sont acheminés vers le système de traitement des gaz résiduaires via un collecteur. Ces gaz sont lavés dans une tour de pulvérisation avec une solution de lait de chaux à 10 % afin d'éliminer les composés fluorés. Simultanément, de l'ammoniac est ajouté à la solution de lavage pour réduire la majeure partie des NOx en N₂ et H₂O. Après déshumidification, les NOx résiduels sont absorbés par un adsorbant SDG par adsorption sur phase solide (avec un métal non noble comme catalyseur), puis évacués par un collecteur d'échappement situé à 20 m de hauteur.
Traitement des déchets de poudre de silicium
La poudre de silicium issue du dépoussiéreur de chargement de matière première, du dépoussiéreur cyclonique de l'atelier de synthèse du trichlorohydrure de silicium et du réacteur de synthèse est acheminée vers une trémie à résidus via une cuve de transport. Elle pénètre ensuite dans une conduite de lavage acide équipée d'un agitateur, où la poudre de silicium est désalcalée par une solution d'acide chlorhydrique à 11 %, dissolvant ainsi les impuretés telles que l'aluminium, le fer et le calcium. Après lavage, le résidu est filtré par un filtre-presse, puis séché. La poudre de silicium séchée est réintégrée au circuit de synthèse du trichlorosilane. Les effluents liquides sont collectés et traités avec les résidus gazeux.
Les gaz résiduaires contenant du HCl, évacués du réservoir de décapage et du réservoir de filtrat, sont envoyés vers un système de traitement des résidus d'échappement pour y être traités.
procédé de traitement des déchets
1. Traitement des effluents liquides de classe I
Les eaux usées acides traitées par la tour de lavage et la poudre de silicium usée sont mélangées, neutralisées et décantées, puis filtrées par un filtre-presse. Le résidu de filtration (principalement du SiO₂) est acheminé vers la cimenterie pour la production de ciment (voir annexe). Les sédiments et le filtrat sont principalement des eaux usées fortement concentrées en sels (NaCl ≥ 200 g/L). Ces eaux ne contiennent pas d'ions calcium, magnésium ni sulfate lors du traitement, et leur qualité répond aux exigences de production du chlore-alcali. Elles sont ainsi transportées vers la ligne de production de soude caustique de Sichuan Yongxiang Co., Ltd., où elles servent de matière première pour le recyclage (voir annexe). Le condensat d'évaporation est réutilisé pour la préparation de la solution alcaline.
2. Traitement des effluents liquides de classe II
Les eaux usées d'acide fluorhydrique, d'acide nitrique et de lavage acide issues de la préparation des noyaux de silicium et du traitement de finition des produits sont neutralisées et décantées par une émulsion de chaux à 10 %, puis filtrées sur un filtre-presse. Le résidu de filtration (principalement du CaF₂) est envoyé à une cimenterie pour la production de ciment (voir annexe). La solution de décantation et le filtrat sont principalement composés de nitrate de calcium. Après évaporation et concentration, la solution est vendue comme sous-produit (voir annexe). Le condensat d'évaporation est réutilisé pour la préparation de liqueur alcaline.
